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產品詳細頁
真空高溫爐

簡要描述:真空高溫爐用于真空與氣氛狀態下,陶瓷材料的合成與燒結;玻璃融化,金屬熔融,分體煅燒;無氧或者氣體保護狀態下,有機質的熱解碳化;干燥,濃縮,熱處理。

  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2024-10-22
  • 訪  問  量:1422

產品介紹

品牌中奧菲達升溫速度(達到最高溫)40/min
內部尺寸300x200x200mm加熱方式硅碳棒
最大功率4000kW控溫精度1℃
最高溫度1400℃價格區間1萬-2萬
儀器種類箱式爐產地類別國產
應用領域醫療衛生,環保,化工,生物產業,綜合

真空高溫爐通用功能         

1、升溫速度快:20min內就可由室溫程序升溫至1000℃ ;

2、氣氛環境:真空環境,真空度可達-0.0099Mpa;

3、水冷卻系統:根據物料特性,溫度可達到1400℃,長時間連續工作溫度100~1300℃;

4、單路氣氛:設置氣體進出口及爐膛內氣體排出口;

5、進口紅外測溫儀,可以不接觸測試物料溫度,避免微波場干擾;

6、門體多重連鎖結構,開門斷電,保護操作人員,微波泄漏防護符合國標;

7、采用PLC自動控制,溫度功率均智能可控,觸摸屏操作;

8、微波功率可調,連續可調。

真空高溫爐重要技術參數
一、型號:AFD1100-50;
二、設備尺寸
a、工作區尺寸:D500(mm) * W400(mm) * H400(mm);
三、機器結構
a、單門落地式,控制部分位于機臺下方;
b、爐門為從左至右打開。
四、主要技術參數
a、溫度范圍:RT~1300℃;
b、溫度波動度:±1.0℃;
c、溫度均勻度:≤±5.0℃;
d、溫度:1400 ℃;
e、額定溫度:1300℃;
f、加熱元件:硅碳棒
g、熱電偶型號:B型
h、四周表面溫度:≤ 溫升50℃;
i、升溫速率:≤ 20 ℃/ Min;
j、升溫速率:10  ℃/ Min;
K、降溫速率:≤ 15 ℃/ Min(爐膛溫度≥1000℃);
l、降溫速率:≤ 10 ℃/ Min(爐膛溫度≤1000℃);
m、加熱元件放在爐膛兩邊采用氣體對流和熱輻射加熱;
n、爐內真空度20Kpa,爐內正壓:max0.1Mpa;
o、爐膛內可通氫氣、氮氣,氧氣(少量)、氬氣等氣體。
五、內外材質
a、爐膛材料:1560型日本進口氧化鋁多晶體纖維(阿爾塞);
b、外層SPCC鋼板防銹處理+粉體烤漆處理;
六、密封裝置
a、爐門與爐體采用硅橡膠密封,配有循環水冷卻裝置;
b、爐體采用雙層爐殼,外城爐殼采用硅橡膠密封;
七、溫控系統;
a、溫度控制為PID微電腦自動演算,PV/SV同時顯示按鍵設定;
b、溫度控制方式為P.I.D+S.S.R可控硅;
c、控制方式:40段程序控溫;
八、保溫及加熱方式
a、耐高溫纖維及空氣隔熱;
b、加熱方式為熱輻射及自然對流;
九、安全保護系統
a、保險絲;
b、過電流保護裝置、過溫保護裝置;
十、配件清單
a、流量計:1只;
b、高溫手套:一副;
c、氧化鋁墊磚:1 塊;
十、電源: 三相380V 

    功率:12KW

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